熱処理装置と蒸着処理装置の複合装置

開放特許情報番号
L2007001493
開放特許情報登録日
2007/3/23
最新更新日
2015/10/12

基本情報

出願番号 特願2005-126524
出願日 2005/4/25
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2006-299378
公開日 2006/11/2
登録番号 特許第4735813号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 熱処理装置と蒸着処理装置の複合装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造、加熱・冷却
適用製品 熱処理装置と蒸着処理装置の複合装置
目的 1200℃の高温で連続加熱できる精密な温度や時間の制御と真空あるいは不活性ガスによる雰囲気および冷却の制御が可能である熱処理と蒸着を同一チャンバー内で連続的に行うことができる熱処理・蒸着複合装置を提供する。
効果 雰囲気、温度、熱処理時間、冷却速度等を精密に制御することができるとともに、同一の二重構造の水冷ジャケット式チャンバーを用いて1200℃の高温で連続加熱と真空あるいは不活性ガスによる雰囲気および冷却制御の下に蒸着処理をすることが可能となる。さらにチャンバー内の圧力を精密に制御することが可能となる。さらに基材を均等に処理することができる。
技術概要
図1はこの装置を用いて熱処理を行っている時の態様を示した概略図であり、図2はこの装置を用いて蒸着処理を行っている時の状態を示す概略図である。また、図3は蒸着処理時の態様を詳細を示したものである。水冷ジャケット式チャンバー1内にはヒータエレメント2と反射板3から構成される基材加熱用ヒータ4が導入電極5を介して設置されている。導入電極5は基材加熱電源6に接続されている。ヒータエレメント2は基材7の大きさに合わせて下方に移動させている。基材加熱用ヒータ4の近傍には、温度測定用の熱電対8が設置されており外部の温度制御切替え装置9に接続されている。回転・旋回装置10と水平駆動装置11を備えた水冷式の基材駆動装置12がジャケット式チャンバー1の側壁に設置され、対面には回転および水平進が可能な基材支持可動軸13が設置されている。基材7は基材駆動装置12と基材支持可動軸13とで支持されており、基材温度測定用の熱電対14が取り付けられている。熱電対14は基材駆動装置主軸15の中心孔を通り、真空シールされた回転式熱電対接続部16を介して温度制御切替え装置9プログラム可能な温度制御装置17に接続されている。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT