HVOF溶射装置

開放特許情報番号
L2007001459
開放特許情報登録日
2007/3/23
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2006-277286
出願日 2006/10/11
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2007-029950
公開日 2007/2/8
登録番号 特許第5071706号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 HVOF溶射装置
技術分野 機械・加工、無機材料
機能 表面処理、材料・素材の製造
適用製品 耐食性構造材、生体関連材料、皮膜形成装置
目的 Tiの酸化を抑えて緻密な金属TiもしくはTi合金の皮膜を形成することのできる手段に有用なHVOF溶射装置を提供する。
効果 大気中においてより経済性、生産性の良好なプロセスとして、溶射法によって、緻密な膜からポーラスなものまで幅広く組織制御を可能とし、特に、Tiの酸化を抑えて緻密な金属TiもしくはTi合金の皮膜を形成することのできるようになる。
技術概要
図1に示す、高速フレーム溶射(HVOF)装置は、灯油等の燃料と酸素ガスの混合による燃焼が行われる燃焼室1と、その出口のノズル4を介して連続する導管2と、この導管2内において、燃焼ガスに対して金属TiまたはTi合金の粉末が供給されて加熱されるバレル部3とを有し、全体として冷却水により冷却されるようにしたものに、さらに、燃焼室1内のノズル4側に、不活性ガスを混合する混合室5が設けてあることを特徴とするHVOF溶射装置である。酸素濃度が5vol%を超える場合、ガス温度が1500℃を超える場合、さらには衝突速度が500m/s未満の場合には、Tiの酸化を抑えることや、緻密な組織を得ることは難しくなる。この方法では、この制御を、燃焼ガス中への不活性ガスの混合により行う。不活性ガスの種類については、たとえば代表的にはN↓2(窒素ガス)や、Ar(アルゴン)、He(ヘリウム)等の希ガスが好適なものとして示される。また、条件によってはCO↓2等の他のものであってもよい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2024 INPIT