出願番号 |
特願2006-277286 |
出願日 |
2006/10/11 |
出願人 |
独立行政法人物質・材料研究機構 |
公開番号 |
特開2007-029950 |
公開日 |
2007/2/8 |
登録番号 |
特許第5071706号 |
特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
発明の名称 |
HVOF溶射装置 |
技術分野 |
機械・加工、無機材料 |
機能 |
表面処理、材料・素材の製造 |
適用製品 |
耐食性構造材、生体関連材料、皮膜形成装置 |
目的 |
Tiの酸化を抑えて緻密な金属TiもしくはTi合金の皮膜を形成することのできる手段に有用なHVOF溶射装置を提供する。 |
効果 |
大気中においてより経済性、生産性の良好なプロセスとして、溶射法によって、緻密な膜からポーラスなものまで幅広く組織制御を可能とし、特に、Tiの酸化を抑えて緻密な金属TiもしくはTi合金の皮膜を形成することのできるようになる。 |
技術概要
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図1に示す、高速フレーム溶射(HVOF)装置は、灯油等の燃料と酸素ガスの混合による燃焼が行われる燃焼室1と、その出口のノズル4を介して連続する導管2と、この導管2内において、燃焼ガスに対して金属TiまたはTi合金の粉末が供給されて加熱されるバレル部3とを有し、全体として冷却水により冷却されるようにしたものに、さらに、燃焼室1内のノズル4側に、不活性ガスを混合する混合室5が設けてあることを特徴とするHVOF溶射装置である。酸素濃度が5vol%を超える場合、ガス温度が1500℃を超える場合、さらには衝突速度が500m/s未満の場合には、Tiの酸化を抑えることや、緻密な組織を得ることは難しくなる。この方法では、この制御を、燃焼ガス中への不活性ガスの混合により行う。不活性ガスの種類については、たとえば代表的にはN↓2(窒素ガス)や、Ar(アルゴン)、He(ヘリウム)等の希ガスが好適なものとして示される。また、条件によってはCO↓2等の他のものであってもよい。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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