| 出願番号 |
特願2008-513335 |
| 出願日 |
2007/4/26 |
| 出願人 |
国立大学法人山梨大学 |
| 公開番号 |
WO2007/126141 |
| 公開日 |
2007/11/8 |
| 登録番号 |
特許第4862167号 |
| 特許権者 |
国立大学法人山梨大学 |
| 発明の名称 |
エレクトロスプレーによるイオン化方法および装置 |
| 技術分野 |
電気・電子、機械・加工、化学・薬品 |
| 機能 |
検査・検出、機械・部品の製造、その他 |
| 適用製品 |
生体分析措置、分析装置 |
| 目的 |
この発明は、前処理なしの生体組織などを対象試料とすることができ、しかも大気圧下で試料イオンの脱離、イオン化が可能なイオン化方法および装置を提供する。 |
| 効果 |
この発明によれば、プローブを振動させて試料をプローブ先端に細くしてエレクトロスプレーさせた機構のため目詰まりが起こらず、効率良くエレクトロスプレーを発生させることが出来る。また、生体試料の様な液体を含む固体状の試料の場合に、特にイメージングが可能となる。 |
技術概要
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従来から生体試料のイメージングに、マトリクス支援レーザ脱離イオン化法（ＭＡＬＤＩ）及びイオン衝撃法（ＦＡＢ／ＳＩＭＳ）が利用されていた。しかし、これらの方法では、レーザ光のビーム径を１０μｍ以下にするのが困難で、またアブレーションが広域にわたるので空間分解能は５０μｍが限界である。この発明の装置は、イオン化装置内に試料台、ＸＹステージ、Ｚステージ、が配置されている。ＺステージはＺ方向振動装置に保持されておりｎｍオーダでＺ方向の往復変位量を制御できる。Ｚステージの下方先端にはプローブが設けられており、先端形状はｎｍオーダのサイズに微細加工されており、このプローブには電圧可変電源装置からの制御により±数百Ｖないし±数千Ｖの電圧が印加できる。このプローブ先端部近傍にイオン化試料を吸引輸送するキャピラリーが配置されている。またこのプローブに向けてＸＹステージ及びＺステージに載せられたレーザからレーザ光が放射される。測定する生体試料を試料台に載せ、プローブと距離を１０μｍから数ｍｍの高さに位置決めし、プローブに高電圧を印加すると生体試料たイオン化されキャピラリーにより質量分析器に輸送され分析が行われる。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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