| 出願番号 |
特願2006-316485 |
| 出願日 |
2006/11/24 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2008-125930 |
| 公開日 |
2008/6/5 |
| 登録番号 |
特許第4817317号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
核スピン偏極希ガスの製造装置と核磁気共鳴分光装置並びに核磁気共鳴イメージング装置 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造、その他 |
| 適用製品 |
核スピン偏極希ガスの製造装置と核磁気共鳴分光装置並びに核磁気共鳴イメージング装置 |
| 目的 |
バッチ方式とフローセル方式の双方の特徴を生かし、かつ偏極希ガスの生成効率とその利用効率性にも優れたシステムを提供する。 |
| 効果 |
バッチ方式とフローセル方式の双方の特徴を生かし、しかも装置そのものの製造、組立て、メンテナンスが容易であって、かつ偏極希ガスの生成効率とその利用効率性にも優れたシステムを構成することが可能である。 |
技術概要
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隙間を介して対向する平板面を有し、隙間には希ガスと光ポンピング用触媒の混合気体が流通する平面型セル部と、レーザー光を照射して平面型セル内に励起用光を照射するレーザー光照射部と、平板面に垂直もしくは略垂直に磁力線が通過するようにした磁場印加部と、平面型セル部の温度調節部とを備えた核スピン偏極希ガスの製造装置である。平面型セル部は、少なくとも平板面の一方がレーザー光透過性とし、希ガス導入のための気体導入部と生成された核スピン偏極希ガスの導出部を有し、気体導入部は希ガスの導入とその停止が、バルブを開けた時に気体導入のための上流側から平面型セル部である下流側を見通すことが可能な構造のバルブにより切換え自在とされているとともに、核スピン偏極希ガスの導出部は平面型セル部である上流側から生成された核スピン偏極希ガスの導出部となる下流側を見通すことが可能な構造のバルブにより導出と停止が切換え自在とされ、かつ、導出部には極細キャピラリー管が連結と脱着可能に設けられている核スピン偏極希ガスの製造装置である。図１は、光ポンピング用触媒の移送の場合として例示した構成ブロック図である。図２は、全体構成を例示したブロック図である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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