露光方法

開放特許情報番号
L2007000920
開放特許情報登録日
2007/3/2
最新更新日
2012/3/16

基本情報

出願番号 特願2006-250761
出願日 2006/9/15
出願人 国立大学法人東北大学
公開番号 特開2007-114758
公開日 2007/5/10
登録番号 特許第4923254号
特許権者 国立大学法人東北大学
発明の名称 露光方法
技術分野 生活・文化、機械・加工
機能 安全・福祉対策、その他
適用製品 カテーテル、内視鏡
目的 この発明は、立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、最適な露光分布条件を実現する露光方法を提供する。
効果 この発明の方法によれば、立体形状へのフォトリソグラフィにおいて最適な露光分布条件を実現しているため、円筒面等の立体形状に正確なパターンを形成することが出来る。
技術概要
従来の立体形状へのフォトリソグラフィにおける露光方法では、立体形状にレジストを均一に形成できない、フォトマスクの位置合わせが難しい、露光ドーズ量が変化し、正確なフォトリソグラフィが行えないなどの問題点を有していた。 この発明の露光方法の概念図、具体的な製造方法が図に示されている。 a)ガラス円筒の外面にCu/Ti薄膜を形成する。 b)ネガレジストを塗布し、レジストの高さ、位置、膜圧分布を測定して2次元のマトリックスに分割し、マトリックスごとに露光高さを合わせた焦点高さと、レジスト厚さに合わせた露光ドーズ量を用いて露光を行う。 c)電気めっき処理でCu層を形成する。 d)ネガレジストを除去し、不要なシード層をエッチングする。 e)SiO↓2絶縁層を気相成長層法で形成する。 f)ポジレジストを塗布し、露光、現像を行いパターニングする。 g)SiO↓2をエッチングし、レジストを除去する。 h)上記のa)〜g)の工程を再び繰り返す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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