ナノインプリント方法及び装置

開放特許情報番号
L2007000793
開放特許情報登録日
2007/3/2
最新更新日
2015/9/25

基本情報

出願番号 特願2005-375998
出願日 2005/12/27
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-019451
公開日 2007/1/25
登録番号 特許第4789039号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ナノインプリント装置
技術分野 電気・電子
機能 表面処理
適用製品 ナノインプリント装置
目的 熱式ナノインプリントプロセスにおいて、プロセススループット向上と大面積化対応の両課題を同時に満足するプロセス技術の確立を図る。
効果 プロセススループットの向上が図られると共に、大面積化に対応可能な熱式ナノインプリント技術が提供される。
技術概要
ヘッドによってモールドを被成形物へ押し付けることで被成形物にパターンの転写を行なうナノインプリントシステムは、ヘッドがモールドを押し付ける際に平坦な押し付け面を有すると共に、ヘッドをモールド上で摺動させつつヘッドがモールドを押し付けるように構成される。ナノインプリント装置100は、被加工基板102を固定するステージ104、モールド106を保持するモールド保持部108a、108b、109a、109b、モールド106をモールド保持部108や109ごと昇降させるモールド昇降機構110、及びモールド106を被加工基板102に押し付けるヘッド112を備える。被加工基板102のナノインプリント成形面積は300×500mmである。そのため、モールド106も大面積の平板モールドが用いられる。離型のし易さを考慮するとモールドの厚みは薄い方がよいため、モールド106の薄さは200〜300μmとする。被加工基板102の材料は、成形温度200度以下の樹脂材料が好ましく、レジスト用PMMA樹脂、光学素子用ポリカーボネート樹脂やCOP樹脂等である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT