ルテニウムヒドリド錯体、アルコール化合物の製造方法およびラセミ体カルボニル化合物の分割方法

開放特許情報番号
L2007000321
開放特許情報登録日
2007/1/26
最新更新日
2012/3/16

基本情報

出願番号 特願2001-301852
出願日 2001/9/28
出願人 日本曹達株式会社
公開番号 特開2003-104993
公開日 2003/4/9
登録番号 特許第4919562号
特許権者 日本曹達株式会社
発明の名称 ルテニウムヒドリド錯体、アルコール化合物の製造方法およびラセミ体カルボニル化合物の分割方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ルテニウムヒドリド錯体、アルコール化合物およびラセミ体カルボニル化合物の分割システム
目的 塩基に敏感なカルボニル化合物を効率よく還元可能なルテニウムヒドリド錯体を提供する。また、このルテニウムヒドリド錯体を用いたアルコール化合物の製造方法やラセミ体カルボニル化合物の分割方法を提供する。
効果 このルテニウムヒドリド錯体によれば、従来のルテニウムジハライド錯体に比べて、強塩基が存在しなくてもカルボニル化合物を還元できるため、塩基に敏感なカルボニル化合物を効率よく還元してアルコール化合物を製造することができる。
技術概要
式(図1)(式中、R↑1R↑2P−W−PR↑3R↑4につき、Wは2位及び2’位にてリン原子と結合し他の位置のいずれかに置換基を有していてもよいビナフチル基であり、R↑1〜R↑4は、同じであっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭化水素基であり、R↑1とR↑2とが一緒になって置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく、R↑3とR↑4とが一緒になって置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく、R↑5〜R↑8は同じであっても異なってもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Zは置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ruの各配位子はどのように配置されていてもよい)で表されるルテニウムヒドリド錯体である。また、ルテニウムヒドリド錯体を用いて、強塩基の不存在下で水素又は水素を供与する化合物の存在下、反応溶媒中又は無溶媒条件で、カルボニル化合物を還元してアルコール化合物を製造するアルコール化合物の製造方法である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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