| 出願番号 |
特願2006-224797 |
| 出願日 |
2006/8/22 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2008-052909 |
| 公開日 |
2008/3/6 |
| 登録番号 |
特許第4845022号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
イオンビーム源装置 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
中性粒子ビーム発生装置、イオンドーピング、材料表面改質、材料合成、イオンビーム源装置 |
| 目的 |
イオンと電子が共存してほぼ電気的な中性が保たれているプラズマ源から、メッシュ構造、あるいは１個ないし多数の孔を持った電極を用いて、電場によりイオンだけを引き出すイオンビーム源装置において、引き出されたイオンによって空間電荷が形成され、引き出し電流密度が大きくなったときに、それに比例した大きな電場が発生し、その結果イオンビームが自己発散するような問題点を除去することの実現。 |
| 効果 |
イオンビームの電荷の中和を、光の照射という簡単な手法で実現することが可能となる。また、イオンビームの空間電荷の中和をイオンビーム発生・引き出し後即座に、しかもビームの全行程の間で行なうことが可能となり、空間電荷によるイオンビームの発散を、効率的、しかも容易に抑えることが可能となる。 |
技術概要
 |
この技術では、メッシュ構造、あるいは１個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、光、あるいはＸ線を電極背面に照射することにより、照射された電極背面から光電子を放出せしめて、電極孔から引き出したイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制するものとする。このイオンビーム源装置において、光、あるいはＸ線の強度を変えて発生する光電子の量を調整し、電荷の中和の程度を制御することにより、空間電荷による電場の大きさを変化させ、イオンの引き出しエネルギー、及び引き出し電流の大きさを可変とすることができる。また、電極背面に量子効率が高く光電子放出係数の大きな材料を使用するか、電極背面の表面に量子効率が高く光電子放出係数の大きな材料をコーティングすることにより、効率的な光電子放出を可能にすることができる。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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