固体状ナノ薄膜

開放特許情報番号
L2006005501
開放特許情報登録日
2006/9/8
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2004-176314
出願日 2004/6/15
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2006-000929
公開日 2006/1/5
登録番号 特許第4803570号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 固体状ナノ薄膜及びナノ薄膜作製方法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 界面活性剤、自己支持性ナノ薄膜、触媒、センサー
目的 固体状態のナノ薄膜、即ち、自己支持性のナノ薄膜の提供。
効果 ナノからサブミリメートルの幅広い範囲の面積で、均一な厚みを有する自己支持性のナノ薄膜を得ることができる。
技術概要
 
この技術では、カチオン性ならびにアニオン性界面活性剤を用いて固体状ナノ薄膜の作製を行う。固体状ナノ薄膜の形成は、細孔を有する基板を界面活性剤の水溶液に浸して垂直に引き上げ、空気中で30分間乾燥させる。乾燥の過程で、溶媒である水が蒸発し、ナノ薄膜が自発的に形成される。即ち、液体状態の泡膜は、放置すること、あるいは減圧下で乾燥させることで、固体状ナノ薄膜となる。ここで、カチオン性界面活性剤として、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド(DTAB)、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド(TTAB)、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)を用い、溶媒として水を用いる。それぞれの水溶液の濃度は、8.2mMである。固体状ナノ薄膜の形成は、非常に薄くかつ均一な薄膜でフォルムバール支持膜の細孔が覆われていることから確認できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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