着磁可能な磁性薄膜構造体とその製造方法

開放特許情報番号
L2006005477
開放特許情報登録日
2006/9/8
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2004-300722
出願日 2004/10/14
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2005-142550
公開日 2005/6/2
登録番号 特許第4590600号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 着磁可能な磁性薄膜構造体とその製造方法
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 超高密度磁気記録媒体、磁性薄膜構造体
目的 隣あう微粒子に強磁性的な結合をもたらすことなしに、飽和磁界の制御が可能な、FePt合金をはじめとする磁気記録媒体用の磁性薄膜構造体とその製造方法の提供。
効果 不規則−規則変態をするような強磁性金属であれば、各種の合金磁性薄膜について、合金磁性薄膜の界面が不規則相となるように非磁性層を表面に配設、すなわち、キャップすることにより飽和磁界の制御が可能になる。
技術概要
 
この技術では、磁気記録媒体用の合金磁性薄膜の表面に、強磁性分極を起こさない非磁性層を配設し、合金磁性薄膜を磁気的に孤立した超微粒子から構成し、かつ合金磁性薄膜の非磁性層との界面が不規則相であり、それ以外の部分が規則相であるものとして着磁可能な磁性薄膜構成体を構成する。合金磁性薄膜はFePtまたはCoPt薄膜とする。合金磁性薄膜がFePt薄膜であって、基板上の膜厚が50nm以下であることが好ましい。また、非磁性層は無機質層または金属もしくは合金層であり、非磁性層がAl↓2O↓3またはSiO↓2であることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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