| 出願番号 |
特願2004-070276 |
| 出願日 |
2004/3/12 |
| 出願人 |
独立行政法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2005-256102 |
| 公開日 |
2005/9/22 |
| 登録番号 |
特許第3899413号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
ナノ材料作製方法 |
| 技術分野 |
無機材料、金属材料、電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
簡便な操作で得られ、デバイス、ナノワイヤー、ナノドット等として広い分野で利用される。 |
| 目的 |
ポーラスアルミナをテンプレートとしたナノレベルサイズのナノワイヤー、ナノドットの作製方法の提供。 |
| 効果 |
低い電圧の直流を使用することができ、得られるナノ材料は、高品質で、低コスト、高い製作効率を有し、その産業的利用価値は極めて大きい。 |
技術概要
 |
アルミニウム基板を陽極酸化して得たポーラスアルミナをテンプレートとするナノ材料の作製方法において、陽極酸化して得たバリヤ層が残っているポーラスアルミナ層或いはバリヤ層が除去されてなるポーラスアルミナ層に、ナノ材料を生成させようとする基板材料を予め膜状に直接一体化して形成させ、バリヤ層が残っているアルミナ層についてはバリヤ層を除去した後において、また、バリヤ層が除去されているアルミナ層については膜生成後において、基板材料が一体化して形成され、そしてバリヤ層が除去されてなるポーラスアルミナをテンプレートとして用い、そのテンプレートに一体化して取り付けられている基板材料上にナノ材料を生成させることにより、ナノ材料を作製する。尚、基板材料を膜状に生成する手段が、スパッタリング、蒸着、無電解メッキの何れかの一つの膜生成手段であり、また、基板材料として、銅を使用する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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