ポーラスメンブレン孔内のナノ構造体とその作製方法

開放特許情報番号
L2006005425
開放特許情報登録日
2006/9/8
最新更新日
2015/10/8

基本情報

出願番号 特願2004-020668
出願日 2004/1/29
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2005-212018
公開日 2005/8/11
登録番号 特許第3861156号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 ポーラスメンブレン孔内のナノ構造体の作製方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 ナノ構造体、ポーラスメンブレン、電子・光デバイス、医療用部材、触媒部材
目的 多孔質体、多孔質膜の孔内へのナノ構造体の作製方法と、この方法により得られるナノ構造体の提供。
効果 基板としてのナノポーラスメンブレンの孔内に選択的に固体元素のナノ構造体を形成することが可能となり、基板としてのナノポーラスメンブレンの特徴、その機能をも生かした、ナノデバイスや、ナノサイズ触媒、触媒の担体、製薬など様々な分野への応用が期待される、ナノ構造体を得ることができる。
技術概要
この技術では、固体元素を含んだガスをポーラスメンブレン表面(孔配列面側)に導入し、収束かつ走査できる電子線をポーラスメンブレン裏側から照射し、ポーラスメンブレン孔内に元素を有するナノ構造体を形成する。複数種のガスを導入して複数種の元素を含むナノ構造体を作製してもよい。そして、ポーラスメンブレンの孔内に固体元素のナノ構造体を配設するものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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