低反射材料の作製方法

開放特許情報番号
L2006005311
開放特許情報登録日
2006/9/8
最新更新日
2015/10/7

基本情報

出願番号 特願2003-087601
出願日 2003/3/27
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2004-292898
公開日 2004/10/21
登録番号 特許第3968433号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 低反射材料とその作製方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 低反射材料
目的 環境負荷が小さく、取り扱いが容易な低反射材料の作製方法を提供する。
効果 環境負荷が小さく、取り扱いが容易な低反射材料の作製方法が提供される。
技術概要
銅から形成された材料または銅を表面に被覆した材料を水酸化ナトリウム水溶液中で陽極酸化し、二価の酸化銅の皮膜を成膜する、低反射材料の作製方法である。例えば、厚さ1mm、縦横10mmの大きさの鏡面研磨した銅板および銅薄膜を表面に形成したステンレス鋼板を、図1に示すように、1Mの水酸化ナトリウム水溶液中に配置し、電流密度1.0mA/cm↑2で25分間陽極酸化する。この後、純水中で超音波洗浄により電解液を除去し、上記銅板およびステンレス鋼板を乾燥する。銅板およびステンレス鋼板の表面は鮮やかな黒色を呈し、XRD(X線回折法)により二価の酸化銅の皮膜が形成されたことが確認された。光ファイバーおよびレンズを用いてハロゲンランプの光を銅板およびステンレス鋼板の表面に入射角45°で照射し、反射角45°で反射スペクトルを測定する。図2は処理後の銅板およびステンレス鋼板の反射スペクトルを他の例と比較して示した図、図3は処理後の銅板およびステンレス鋼板に成膜された二価の酸化銅の皮膜表面の走査型電子顕微鏡像である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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