高周波熱プラズマ流の均質化方法

開放特許情報番号
L2006005262
開放特許情報登録日
2006/9/8
最新更新日
2015/10/7

基本情報

出願番号 特願2002-379733
出願日 2002/12/27
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2004-213942
公開日 2004/7/29
登録番号 特許第3893460号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 高周波熱プラズマ流の均質化方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 高周波熱プラズマ流の均質化システム
目的 高周波熱プラズマ流の均質化、特に、半径方向の流速分布、温度分布の平坦化を図ることのできる高周波プラズマ流の均質化方法を提供する。
効果 高周波熱プラズマ流の均質化、特に、半径方向の流速分布、温度分布の平坦化を実現することができる。
技術概要
高周波熱プラズマ流の均質化方法では、図1に示すように、シースガス1、セントラルガス2及び原料搬送ガス3の3系統のガスを供給し、圧力100Torr〜760Torrで発生させ、3000℃より高い温度を有する高周波誘導熱プラズマ4のプラズマ尾炎部に、図2にも示すように、旋回流5を、水平面上で半径方向からの角度θ↓1を45°以上で供給する。プラズマ尾炎部に供給する旋回流5の角度を半径方向に対し45°以上とすることにより、旋回流5によって熱プラズマ流を包み込むことができ、流路を制限することができる。角度θ↓1が45°未満の場合、旋回流5は熱プラズマ流の中に侵入して流れを乱すことになり、熱プラズマ流の均質化には寄与しない。供給量、ガスの線速度等により異なるが、角度θ↓1は、好ましくは60°以上である。また、旋回流5のガス供給量をシースガス1、セントラルガス2及び原料搬送ガス3の3系統のガス供給量の総計の50%以下とする場合、旋回流5の向きを、図3に示すように、水平面から下方向の傾角θ↓2を30°以下とすることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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