| 出願番号 |
特願2002-142452 |
| 出願日 |
2002/5/17 |
| 出願人 |
独立行政法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2003-332256 |
| 公開日 |
2003/11/21 |
| 登録番号 |
特許第4257404号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
機械式コンビナトリアルイオン注入装置 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
機械式コンビナトリアルイオン注入装置 |
| 目的 |
シリコンウエハーやセラミックス、ガラスなどの無機材料、金属材料などの各種の試料にイオン注入し、新規材料合成の組成、ドーズ量、注入エネルギーの最適化などを行うための機械式コンビナトリアルイオン注入装置を提供する。 |
| 効果 |
イオン注入法で連続的なコンビーケミカルライブラリーの製作を目的とした仕様であり、これにより新規材料合成の組成の最適化が短時間で行えるようになる。 |
技術概要
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イオン注入装置内に、回転円板を設け、回転円板は回転機構を及び回転円板を回転中心軸に垂直方向に往復運動させる機構を有し、回転円板は、その周辺部にウエハー状試料を保持する試料ステージを有し、かつ、イオンビームを通過させるところの半径方向に長辺を有するスリットを有し、更に、回転円板のバックサイドには、スリットを通過するイオン電流値を測定する固定式のイオン電流検出機構を設け、測定されるイオンビーム電流値と、回転円板の中心からウエハー状試料面上の特定位置までの距離に応じて往復運動速度を変化させるコンビナトリアルイオン注入装置である。ウエハー状試料を搭載させる回転円板の方向移動速度を回転円板の中心からウエハー状試料面上の距離に応じてイオン注入量を変化させるようにした。ウエハー状試料面内でのイオン注入量の等高線の一例を図１に示す。図２は、図１のＡ−Ａ’方向断面図である。イオン注入中のイオン電流値は、図２に示すように、回転円板２のバックサイドに設けた固定式のイオン電流検出装置４で、スリット１を通過したイオン量を測定する。図３は、この装置を用いたイオン注入で得られるウエハー状試料の面内でのイオン注入量の一例を示す模式図である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
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