透明性光学材料の光透過率低下の制御方法

開放特許情報番号
L2006004864
開放特許情報登録日
2006/9/1
最新更新日
2015/10/6

基本情報

出願番号 特願2001-091291
出願日 2001/3/27
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2002-286905
公開日 2002/10/3
登録番号 特許第3569745号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 透明性光学材料の光透過率低下の制御方法
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 結晶質あるいは非晶質の透明光学基板材料としての色ガラス、非線形光学材料、硬化光学材料、核融合炉等照射損傷環境での計測診断等用光学窓材料
目的 イオン注入プロセスやイオン損傷環境下における透明性光学材料の光透過率の減少を抑えることのできる、新しい技術手段の提供。
効果 照射中の動的な回復により、物性や品質の変化が懸念される加熱溶融を伴わずに、また照射後アニールが不要となって、イオン注入技術における光透過率の低下を防止することができる。このことによって、非線形光学材料等への用途が広がる。
技術概要
この技術では、イオン注入プロセスもしくはイオン照射損傷環境下における結晶質あるいは非晶質の透明性光学材料に対し、これら透明性光学材料の溶融あるいは軟化を行うことなく、イオン照射と同時にレーザーを照射して、透明性光学材料の光透過率の低下を抑える。尚、レーザー照射は、透明性光学材料のエネルギーギャップよりも小さいエネルギーの波長の高出力レーザーを照射する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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