斜出射X線分析方法

開放特許情報番号
L2006004863
開放特許情報登録日
2006/9/1
最新更新日
2015/10/6

基本情報

出願番号 特願2001-091277
出願日 2001/3/27
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2002-286661
公開日 2002/10/3
登録番号 特許第3673825号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 斜出射X線分析方法
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 斜出射電子線プローブマイクロX線分析方法
目的 X線検出器の取付け方向と試料ステージの傾斜軸の幾何学的な位置関係に関わらずに特性X線の取出し角度の調整を可能とし、且つ、取出し角度調整時の観察視野の変動も抑えた、新しい斜出射X線分析方法の提供。
効果 斜出射EPMAを、あらゆるタイプの特性X線分析装置付き走査型電子顕微鏡に適用可能なより汎用性のあるものとして、普及を進めることができ、材料の設計や解析に大きく貢献することができる。
技術概要
試料表面上の微小物体からの特性X線をX線検出器により検出する際に、試料内部からの特性X線がその全反射現象により検出されない角度以下に特性X線の取出し角度を設定する斜出射X線分析方法において、この技術では、Z軸とは異なる傾斜軸を有する傾斜面を持つ試料ステージ上に試料を設置し、試料のZ軸上の位置を調整することにより特性X線の取出し角度を設定し、試料ステージの傾斜軸とX線検出器の取付け方向とが直交する位置以外の位置に置かれたX線検出器によって、試料表面上の微小物体からの特性X線を検出する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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