パラジウム系複合膜、その製造方法及びそれを用いた水素分離膜

開放特許情報番号
L2006004617
開放特許情報登録日
2006/8/18
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2006-134553
出願日 2006/5/12
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-301514
公開日 2007/11/22
登録番号 特許第4753180号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 水素分離材及びその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素分離材、パラジウム系複合膜
目的 低温から高温に至る温度領域において、優れた水素の選択透過性及び大きい透過速度を有し、しかも水素脆化や膜の破壊を生じることなく安定した性能を示す耐久性のあるパラジウム系水素分離膜を提供する。
効果 水素透過性に優れ、しかも室温から600℃以上の広い温度領域にわたり、安定で剥離や損傷を生じることがない耐久性のある水素分離材が提供される。
技術概要
多孔質基材に担持された安定化ジルコニア粒子とアルミナ粒子との混合焼結体層と、その中の粒子間隙に充填されたパラジウム金属又はパラジウム合金層からなる水素分離材は、安定化ジルコニアゾルとアルミナゾルとの混合物にバインダーを加えて、混合ゾルを調製し、これを多孔質基材の表面に塗布したのち、500〜800℃において焼成して、混合焼結体層を形成させ、次いでこの混合焼結体層の少なくとも一部に核種を分散させたのち、無電解めっき処理によりパラジウム金属又はパラジウム合金を焼結体層中の粒子間隙に充填することにより製造する。混合焼結体層における安定化ジルコニアとアルミナとの質量比は、95:5ないし20:80の範囲にある。混合焼結体層平均細孔径は、1〜100nmの範囲にある。混合焼結体層は、0.1〜20μmの範囲にある。多孔質基材は、多孔質セラミックス又は多孔質金属からなる。図1は水素分離材の構造の1例を示す断面模式図、図2は、保護層を有する水素分離材の構造の1例を示す断面模式図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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