| 出願番号 |
特願2004-372950 |
| 出願日 |
2004/12/24 |
| 出願人 |
国立大学法人宇都宮大学 |
| 公開番号 |
特開2006-176698 |
| 公開日 |
2006/7/6 |
| 登録番号 |
特許第4143727号 |
| 特許権者 |
国立大学法人宇都宮大学 |
| 発明の名称 |
磁性砥粒及びその製造方法 |
| 技術分野 |
無機材料、電気・電子 |
| 機能 |
表面処理 |
| 適用製品 |
磁性砥粒、活性炭用無電解めっき活性化剤 |
| 目的 |
精密な表面加工を可能にする軽量でかつ研磨性能に優れた安価な磁性砥粒及びその製造方法を提供する。 |
| 効果 |
この磁性砥粒及びその製造方法によれば、軽量でかつ研磨性能に優れた磁性砥粒を安価に得ることができ、さらに、この磁性砥粒を用いて磁気研磨法による精密研磨を行うことができる。このため、被加工物の表面の精密加工が可能となると共に、複雑な形状を有する被加工物を容易に加工することができる。 |
技術概要
 |
活性炭粒子上に磁性を有する含ニッケル無電解めっき層が形成されている磁性砥粒である。この磁性砥粒は、活性炭粒子をＮｉＳＯ４／ピコリン酸溶液に浸漬した後、この活性炭粒子を不活性雰囲気下にて加熱乾燥して、活性炭粒子に付着したピコリン酸とニッケルのキレート化アニオンをニッケル金属に還元すると共にピコリン酸を炭化させて、活性炭粒子上にニッケル金属元素を形成して、活性炭粒子の活性化を行い、次いで、含ニッケル無電解めっきを行うことにより製造できる。含ニッケル無電解めっき層は、無電解ニッケル−ボロンめっき層、又は無電解ニッケル−ボロン−ダイアモンド複合体めっき層である。活性炭粒子の平均粒径は、２０〜６０μｍであるのが好ましい。含ニッケル無電解めっき層の膜厚が１０〜１００ｎｍであるのが好ましい。図１（ａ）は、活性炭の未処理状態の走査電子顕微鏡写真（倍率２，３００倍）、（ｂ）はこの活性炭にニッケル無電解めっきした状態の走査電子顕微鏡写真（２，３００倍）、（ｃ）はこの活性炭にニッケル−ダイアモンド複合体無電解めっきした状態の走査電子顕微鏡写真（２，３００倍）である。図２は、磁性砥粒を製造する各工程を示したフローチャートである。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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