質量分析用イオン化基板及び質量分析装置

開放特許情報番号
L2006004282
開放特許情報登録日
2006/7/14
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2006-116525
出願日 2006/4/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-329977
公開日 2006/12/7
登録番号 特許第4761144号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 質量分析用イオン化基板及び質量分析装置
技術分野 電気・電子、食品・バイオ
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 タンパク質、ペプチド、糖質、オリゴヌクレオチド
目的 レーザー脱離イオン化質量分析用試料基板において、レーザー光を照射されたときに、妨害ピークを発生させることなく、生体関連物質および合成有機化合物などの様々な試料を正確かつ高感度に質量分析ができ、試料作成にあたっては、試料を均一に塗布することができ、かつ測定後の洗浄が容易であるソフトLDI−MS(レーザー脱離イオン化質量分析法)測定のための試料基板およびそれを用いる測定装置の提供。
効果 本技術のレーザー脱離イオン化質量分析用試料基板を使用すれば、レーザー光照射時における、イオン化剤由来の妨害ピークを発生しないので、正確な測定ができる。また、表面に形成された突起状のドット構造体からなるイオン化媒体を用いることにより、従来から知られている多孔質体を用いた場合と比較して測定後の洗浄が容易となり、前測定の試料汚染を防止して繰り返し測定にも耐えられる試料基板が得られる。
技術概要
本技術は、レーザー脱離イオン化質量分析に供するための試料基板において、基板平滑表面上に物質を付着させて複数の凸状ドット構造体が分布する表面を形成し、この基板をレーザー脱離イオン化質量分析に用いるイオン化媒体として用いるようにしたものである。このイオン化基板は無機材料であり、被測定試料を塗布する基板表面は化学的に安定であるため、微細な多孔質イオン化基板のような表面不安定性がなく、いつでも測定データを再現する事ができる。また、表面に凸状のドット構造体が形成されているため、既出願の焦電性単結晶基板を用いた場合と比較して比表面積が著しく大きいため、試料成分の薄膜を広い面積で形成することができ、結果として高感度化を達成することができる。更に本技術の基板は分子線エピタキシー法などの汎用ドライプロセスを用いて製造する事も可能であるため、従来技術である微細な多孔質イオン化基板の製造で必要とされるフッ酸によるエッチング等のウエットプロセスに比べ量産化を図ることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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