腐食防止膜の形成方法

開放特許情報番号
L2006004133
開放特許情報登録日
2006/7/7
最新更新日
2006/7/7

基本情報

出願番号 特願平10-183018
出願日 1998/6/29
出願人 日本航空電子工業株式会社
公開番号 特開2000-017483
公開日 2000/1/18
登録番号 特許第3268386号
特許権者 日本航空電子工業株式会社
発明の名称 腐食防止膜の形成方法
技術分野 電気・電子、情報・通信、機械・加工
機能 表面処理
適用製品 電気機器及び電子部品
目的 環境に与える負荷を小さくすることができる腐食防止膜の形成方法とそのための水溶液を提供する。
効果 環境に与える負荷が小さく、処理後の接触抵抗が低く安定し、接触信頼性に優れた腐食防止膜を提供することができる。
技術概要
 
ベンゾチアゾール及びその誘電体の内の少なくとも一種を含む水溶液を電解液として、陽極側に金属膜を用いて0〜1.0Vの範囲内の直流定電圧電解によって腐食防止膜を形成する。
イメージ図
実施実績 【有】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 金メッキの腐食を防止し、なおかつ接触信頼性に優れ、環境に与える負荷も小さい腐食防止膜の形成方法である。

登録者情報

登録者名称 日本航空電子工業株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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