| 出願番号 |
特願2004-325746 |
| 出願日 |
2004/11/9 |
| 出願人 |
国立大学法人金沢大学 |
| 公開番号 |
特開2006-131852 |
| 公開日 |
2006/5/25 |
| 登録番号 |
特許第4431790号 |
| 特許権者 |
国立大学法人金沢大学 |
| 発明の名称 |
レゾルシノールノボラック誘導体 |
| 技術分野 |
化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
レゾルシノールノボラック誘導体 |
| 目的 |
高分子量でかつ線状（一次元直鎖状）構造であることを特徴とするレゾルシノールノボラック誘導体の提供する。 |
| 効果 |
線状構造をとっており、構造欠陥や分岐がない。また従来には達成困難であった、分子量数万を超える高分子を容易に得ることができる。製造法も一般的なフェノール樹脂の合成法である、付加縮合であり、実験室レベルからプラントレベルまで幅広く対応できる。得られる線状高分子は、各種有機溶媒への優れた溶解性を示す。また、フェノール樹脂の特性である、耐熱性・耐薬品性といった性質を受け継いでいる。 |
技術概要
 |
式１に示す、くり返し単位からなり線状であるレゾルシノールノボラック誘導体である。数平均分子量は、２００〜１０，０００，０００であり、又は不溶性のゲルである。式２のレゾルシノール誘導体と、式３のベンズアルデヒド誘導体とを酸触媒の下に反応式により付加縮合して製造する。式中、Ｒ↓１、Ｒ↓２及びＲ↓４〜Ｒ↓７は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、フェニル基、炭素数１〜１８のアルコキシ基、ハロゲン等、Ｒ↓３は、ニトロ基、炭素数４以上のかさ高いアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、エステル基等のいずれかである。酸触媒は、有機スルホン酸、硫酸を使用することが好ましい。反応は溶媒を用いて行ってもよく、酢酸、エチレングリコールモノエチルエーテルおよびその混合溶媒が最適である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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