光導波路およびその作製方法

開放特許情報番号
L2006003991
開放特許情報登録日
2006/6/23
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2006-065628
出願日 2006/3/10
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-241048
公開日 2007/9/20
登録番号 特許第4997396号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光導波路およびその製造方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 光導波路
目的 コアとクラッドとの界面に荒れを生じさせることなく、かつ容易に作製しうるステップインデックス型光導波路およびその作製方法を提供する。
効果 量産に適した低損失の光導波路を容易に作製することができる。また、作製した光導波路は、高屈折率化合物を一度昇華させるプロセスを経ているので、高屈折率化合物は分子レベルまで分解可能であり、コア部に極めて高純度の化合物を浸透させることが可能である。従って、光導波路の特性を大幅に向上させることができる。
技術概要
コア部とクラッド部を有する光導波路において、コア部が、クラッド部を構成する母体ポリマー材料に、気化性を有している、母体ポリマーよりも屈折率が高い、光の伝搬波長において透明である、特性を有する化合物の気体分子を浸透させた複合体により構成されている光導波路である。浸透させる化合物の飽和蒸気圧が、100℃において10↑−↑3〜150mmHgの範囲にある光導波路である。コア部とクラッド部を有する光導波路の製造方法において、所定の導波路形状に対応してマスキングされた母体ポリマー材料と所定の特性を有する化合物とを真空密閉容器に入れ、真空密閉容器を加熱することにより、化合物の気体分子を非マスキング部から母体ポリマー材料中に浸透させて、コア部となるべき部分に複合体を形成させる工程、母体ポリマー表面のマスクを除去する工程、化合物分子が浸透した母体ポリマー材料表面に母体ポリマー材料を積層して、両者を一体化する工程、を備えた光導波路の製造方法である。図1は光導波路の概要を示す斜面図、図2は光導波路作製手法の過程を示す断面図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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