シロキサン系ポリマーの効率的製造方法

開放特許情報番号
L2006003989
開放特許情報登録日
2006/6/23
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2006-065174
出願日 2006/3/10
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-238831
公開日 2007/9/20
登録番号 特許第4761139号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 シロキサン系ポリマーの効率的製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 シロキサン系ポリマー
目的 縮重合過程における反応を制御しながら効率的に進行させることにより、構造が制御されたポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーを、より効率的に製造する方法を提供する。
効果 この方法を用いることにより、従来の通常加熱に比べ、短時間で高分子量のシロキサン系ポリマーが得られる。また、この方法により得られたシロキサン系ポリマーは、残存ヒドロキシ基の割合や骨格構造等のポリマー構造の面でも、通常加熱に比べ、特定の構造が選択的に得られやすい。
技術概要
 
トリアルコキシシラン、又はトリアルコキシシランとジアルコキシシランの混合物に、触媒存在下、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーを製造する。さらに、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーに、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、これらのポリマーを高分子量化する。式I:R↑1Si(OR↑2)↓3(式中、R↑1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、1価の複素環基、および水素原子から選ばれる1価の基を示し、R↑2はアルキル基である。)で表されるトリアルコキシシラン類に、触媒存在下、温度を制御してマイクロ波を照射する、式II:(R↑1SiO↓3↓/↓2)↓n(式中、R↑1は式I中のものと同じものを示し、nは2〜50000の整数であり、また、末端の基がある場合には、ヒドロキシ基、または、原料や溶媒に由来するアルコキシ基である。)で表されるシロキサン系ポリマーの製造方法である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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