技術概要
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二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に、高分子成形体の融点より１０〜３０℃低い温度で、超臨界状態下の二酸化炭素中に溶解した顔料を接触させる高分子成形体の着色方法である。二酸化炭素の超臨界状態での温度が、高分子成形体のガラス転移温度以上、かつ、融点より１５〜２５℃低い温度である。高分子成形体は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ乳酸、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル、フッ素樹脂から選択される少なくとも１種の材料からなる。加圧した液体の二酸化炭素を恒温室１４を通してガス化し、超臨界状態の二酸化炭素流体とする。着色方法を、図の装置を用いて説明する。顔料の入ったチャンバー１５内へ超臨界状態の二酸化炭素を通過させ、顔料を超臨界二酸化炭素流体に溶かす。オートクレーブ１内の温度を所定温度にする。高分子成形体の設置されたオートクレーブ内へ顔料を含んだ超臨界二酸化炭素流体を供給する。一定時間保持した後、減圧する。これによって、材料の表面は顔料で着色される。オートクレーブ内の温度はマイクロヒータで制御する。 |
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