| 出願番号 |
特願2006-014576 |
| 出願日 |
2006/1/24 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2007-197226 |
| 公開日 |
2007/8/9 |
| 登録番号 |
特許第5046221号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
高い信頼性を持つ高熱伝導窒化ケイ素セラミックスの製造方法 |
| 技術分野 |
無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
窒化ケイ素焼結体、構造用セラミック材料 |
| 目的 |
多くの不純物酸素を含む低品位のＳｉ原料粉末から不純物酸素量の少ない高品位なＳｉ粉末まで、多様なＳｉ原料粉末を出発原料として用いることができ、更に、従来の成形、焼成プロセスの適用が可能で、しかも、優れた機械特性と高熱伝導性を併せ持つ窒化ケイ素焼結体を製造できる窒化ケイ素焼結体の製造技術及びその製品の提供。 |
| 効果 |
本技術により、反応焼結の手法を利用して合成した、高い信頼性を有する高熱伝導窒化ケイ素セラミックス及びその安価な製造方法を提供することができる。 |
技術概要
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この技術は、ケイ素粉末の反応焼結を利用して合成した反応焼結窒化ケイ素焼結体であって、β相窒化ケイ素を主成分とし、Ｙ、Ｙｂ、Ｎｄ、Ｓｍの少なくとも一種を酸化物に換算して０．５〜７ｍｏｌ％含有し、Ｍｇの存在量が酸化物に換算して２ｍｏｌ％以下であり、１００Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導率、６００ＭＰａ以上の３点曲げ強度、及び予き裂導入破壊試験法で測定した破壊靱性が７ＭＰａｍ↑（１／２）以上である。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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