| 出願番号 |
特願2006-011844 |
| 出願日 |
2006/1/20 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2007-192689 |
| 公開日 |
2007/8/2 |
| 登録番号 |
特許第4568883号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
応力・歪みの解析方法及び装置 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
検査・検出 |
| 適用製品 |
物体の応力・歪み状態をより詳細に把握できるようにした応力・歪み解析方法及び応力・歪み解析装置 |
| 目的 |
物体の応力状態を測定するに際して、光弾性測定法だけでなく、応力発光物質を応用した応力測定を併用することによって、光弾性測定法の原理的な限界を超えて、より詳細な応力測定を可能とする応力解析方法及び応力解析装置の提供。 |
| 効果 |
物体の応力分布を測定するに際して、光弾性測定法の、例えば主応力成分値がわからないという原理的な限界を超えて、より詳細な応力状態を測定することができる。 |
技術概要
 |
本技術においては、例えば、荷重が加えられたフックをカメラで撮影するが、その際に、フックに作用した応力・歪みによって生じる複屈折を撮影する、従来から用いられている光弾性測定用カメラによって撮影し（光弾性光学系は省略）、更に、フックに応力により発光する物質を適用して、その物質が応力によって発光する状態をカメラで撮影する。ここで使用するカメラはそれぞれ別個のものを用いることができるが、１つのカメラによって撮影しても良い。このようにして撮影した画像データにより、光弾性応力測定部で光弾性応力分布を測定し、また、応力発光測定部で応力発光分布を測定する。これらの測定データは演算処理部において演算を行う。その演算結果はデータ出力部から例えば画像として画像出力部に出力し、モニタ等に画像表示する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)