ナノ構造制御高分子イオン交換膜の製造方法

開放特許情報番号
L2006001976
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2003-305094
出願日 2003/8/28
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2005-078849
公開日 2005/3/24
登録番号 特許第4576620号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 ナノ構造制御高分子イオン交換膜の製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 燃料電池、電気自動車、簡易補助電源
目的 高いイオン交換容量と優れた耐酸化性及び寸法安定性とを有する高分子イオン交換膜及びその製造法を提供するものであり、特に、燃料電池への使用に適したイオン交換膜及びその製造法の提供。
効果 製造された高分子イオン交換膜は、優れた耐酸化性、寸法安定性、電気伝導性、及び耐メタノール特性と共に、広い範囲のイオン交換容量を有する。このような特徴から、本発明のイオン交換膜は、特に燃料電池膜に適している。また、安価で耐久性のある電解膜やイオン交換膜として有用である。
技術概要
 
この技術では、高分子フィルムに放射線照射し種々のモノマーをグラフト又は共グラフトし、得られたグラフト鎖にスルホン酸基を導入することに関して研究を進めた結果、基材として高分子フィルムを用い、この高分子フィルム基材に、水素イオン、ヘリウムイオン又は高エネルギー重イオンを照射してナノサイズの照射損傷領域を多数形成させ、この損傷領域に特定の官能性モノマーをグラフト重合させ、更に、グラフトした分子鎖中のハロゲン基やエステル基をスルホン酸基とする高分子イオン交換膜を製造する。その高分子イオン交換膜は、高分子フィルム基材へのモノマーのグラフト率が10〜120%、イオン交換容量が0.3〜2.5meq/gであることを特徴とする。また、本発明の高分子イオン交換膜は、イオン交換容量などの特性を広い範囲内で適切に制御できること、耐酸化性や耐熱性が高いこと、並びに膜の寸法安定性が高いことなどのきわめて優れたものにできる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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