Mo/Si多層膜及びその耐熱性を向上させる方法

開放特許情報番号
L2006001850
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2006/3/17

基本情報

出願番号 特願2001-076031
出願日 2001/3/16
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2002-277589
公開日 2002/9/25
発明の名称 Mo/Si多層膜及びその耐熱性を向上させる方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 波長13nm領域、反射率、Mo/Si多層膜反射鏡、耐熱性、多層膜
目的 新たな物質を多層膜界面に導入することにより、Si化合物の生成を抑え、耐熱性を向上させることの実現。
効果 Mo層とSi層との界面にSiO↓2層を挿入した多層膜は、放射光やX線レーザー等の高熱負荷軟X線用の反射鏡として利用することが期待出来る。
技術概要
この技術は、Mo/Si多層膜のMo層とSi層との界面(Si層の上、下または両方)に薄いシリコン酸化物層(Si↓2O↓3等も含まれるSiO↓2を中心とする層)を挿入することにより、Mo層とSi層の界面におけるSi化合物の生成を抑制し、熱による多層膜の周期長および軟X線反射率の低減を抑え、耐熱性を向上させるものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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