イオンビームによる表面処理方法および表面処理装置

開放特許情報番号
L2006001675
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2009/11/6

基本情報

出願番号 特願2005-506500
出願日 2004/5/28
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 WO2004/107425
公開日 2004/12/9
登録番号 特許第4006531号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 イオンビームによる表面処理方法および表面処理装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 洗浄・除去、表面処理、機械・部品の製造
適用製品 イオンビームによる表面処理装置
目的 常温及び常圧で液体の物質を用いた、これまでにない基材の表面清浄化や表面加工を行うための表面処理方法および表面処理装置を提供する。
効果 常温及び常圧で液体の物質を用いた、これまでにない基材の表面清浄化や表面加工を行うための表面処理方法および表面処理装置を提供できる。
技術概要
アルコールやアセトン等の常温及び常圧で液体の物質の高圧蒸気をノズル形状の小孔から真空中に噴射させることで断熱膨張によって塊状分子集団であるクラスターを生成させ、生成したクラスターを電子衝撃によってイオン化し、引き出したクラスターイオンビームを減速電界法による質量分離によって構成分子数を選別して輸送し、基板表面に照射できる表面処理装置である。常温及び常圧で液体の物質のクラスターを生成するための真空空容器であるソースチャンバー1、生成されたクラスターを小さい開孔を有するスキマー10を通過させて細いビーム状にするための真空空容器である差動排気チャンバー2、クラスタービームをイオン化し、質量分離によって構成分子数が選別されたクラスターイオンビームを基板表面に照射するためのターゲットチャンバー3を基本構成とする。イオン発生源の材料として液体物質を用いるので、その連続供給や制御が容易である。液体物質の蒸気が噴射される前の真空度は3×10↑−↑3Torrである。差動排気チャンバー2の真空排気は、油拡散ポンプ13と油回転ポンプ14によって行われ、液体物質の蒸気が導入される前の真空度は、6×10↑−↑7Torrである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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