Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法

開放特許情報番号
L2006001576
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2015/8/5

基本情報

出願番号 特願2003-154194
出願日 2003/5/30
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2004-353057
公開日 2004/12/16
登録番号 特許第4496361号
特許権者 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
発明の名称 Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法
技術分野 有機材料、無機材料
機能 材料・素材の製造、表面処理、安全・福祉対策
適用製品 簡便な操作で実施でき、強酸を扱う化学プラントの酸化防止や衝撃緩和のための被覆技術、時計や食器への被覆等として広い分野で利用される。
目的 核分裂より生じた放射性核種(FP)が凝着・付着しても、FPとの化学反応も生じることのない、Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法の提供。
効果 耐熱金属表面に緻密で均一な耐熱被覆が形成でき、FPと金属材料との化学反応を防ぐと共に、FPの拡散を防ぐことができ、その工業的利用価値は極めて大きい。
技術概要
800℃以上の高温において、核分裂により生じた放射性核種(FP)がNi基耐熱合金製の構造体表面へ凝着・付着するのを防止する耐熱セラミックス薄膜の被覆層を形成する。尚、アルミナやジルコニアよりなる緻密で、凹凸のない均一な耐熱セラミックス薄膜の被覆層を形成させ、また、セラミックス薄膜の被覆層が、800℃の高温から水中に投入しても剥離せず、また、セラミックス薄膜の被覆層が、↑(110m)Ag、↑(137)Cs、↑(131+133)Iの核分裂により生じたFPと化学結合をしない。更に、電子銃からの電子ビームをセラミックス形成用ターゲット材に照射して加熱蒸発してNi基耐熱合金に蒸着させ、その耐熱合金表面に緻密で凹凸のない均一な耐熱セラミックス薄膜の被覆層を形成することにより、800℃以上の高温において、核分裂により生じた放射性核種の凝着・付着を防止するためのNi基耐熱合金表面への耐熱セラミックス薄膜の被覆層を形成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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