橋かけ構造を有するキチン誘導体及び/又はキトサン誘導体の製造方法

開放特許情報番号
L2006001553
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2001-362131
出願日 2001/11/28
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2003-160602
公開日 2003/6/3
登録番号 特許第3947391号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 橋かけ構造を有するキチン誘導体及び/又はキトサン誘導体の製造方法
技術分野 有機材料、食品・バイオ
機能 材料・素材の製造
適用製品 簡便な操作で得られ、創傷被覆材、保湿材、水の腐敗防止、抗菌繊維の製造等の分野で広く利用される。
目的 キチン誘導体及び/またはキトサン誘導体に精製水を加え良く練り電離性放射線を照射して得られる橋かけ構造を有するキチン誘導体及び/またはキトサン誘導体の製造方法の提供。
効果 橋かけ構造を有するキチン誘導体はハイドロゲルであり、橋かけ構造を有するキトサン誘導体は抗菌活性を有したハイドロゲルであり、その利用価値は極めて大きい。
技術概要
原料はキチン誘導体及び/またはキトサン誘導体であり、原料100重量部に対して精製水3〜1,000重量部からなるペースト状混合物に放射線を照射することにより、橋かけ構造を有するキチン誘導体及び/またはキトサン誘導体を得、橋かけ構造を有するキチン誘導体が抗菌活性を有するハイドロゲルであることを特徴とする、橋かけ構造を有するキチン誘導体及び/またはキトサン誘導体を製造する。尚、原料のキチン誘導体及び/またはキトサン誘導体がグルコース単位当たり少なくとも一つのヒドロキシ基またはカルボキシル基を有する、カルボキシアルキルキチン、カルボキシアルキルキトサン等であり、また、キチン誘導体及びキトサン誘導体の平均置換度は0.01以上であり、また、電離性放射線の照射線量は0.5kGy以上である。更に、ハイドロゲルの精製水の吸水率は自重に対し5重量倍以上である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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