広範囲なイオン交換容量のフッ素樹脂イオン交換膜及びその製造方法

開放特許情報番号
L2006001529
開放特許情報登録日
2006/3/17
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2000-170450
出願日 2000/6/7
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2001-348439
公開日 2001/12/18
登録番号 特許第4568848号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 広範囲なイオン交換容量のフッ素樹脂イオン交換膜及びその製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 燃料電池用イオン交換膜
目的 温度、酸素分圧などを制御して放射線を照射した長鎖分岐型ポリテトラフルオロエチレン膜を、液体スチレンモノマー中で再度放射線を照射しでスチレンをグラフトさせ、ポリスチレングラフト側鎖にスルホン基を導入して、表記のフッ素樹脂イオン交換膜を得る。
効果 低コストで、高イオン交換容量と強い膜強度を有している。
技術概要
 
(A)ポリテトラフオロエチレン膜を300〜365℃、10Torr以下の酸素分圧の雰囲気条件で、電子線又はγ線を、5〜300kGyの線量で照射して長鎖分岐型ポリテトラフルオロエチレン膜とする。これを(B)液体スチレンモノマー、又はこれを溶媒(例えば、ベンゼン)で希釈した溶液の中に入れ、再度電子線又はγ線を室温、不活性ガス(例えば、アルゴンガス、窒素ガス)中で5〜100kGyの線量を照射し、成分Aにポリスチレングラフト側鎖を導入する。これを室温〜60℃で、溶媒(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン)を用い、好ましくは0.2〜0.5mol/Lのクロロスルホン酸を反応させ、十分に水洗いして溶媒と未反応クロロスルホン酸を除去しながら加水分解させて、側鎖にスルホン酸基を生成させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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