微粒子集積体の製造方法及び微粒子細線アレイ

開放特許情報番号
L2006000878
開放特許情報登録日
2006/2/24
最新更新日
2015/11/9

基本情報

出願番号 特願2004-114228
出願日 2004/4/8
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2005-296747
公開日 2005/10/27
登録番号 特許第4679832号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 微粒子集積体の製造方法及び微粒子細線アレイ
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 フォトニック結晶、光学素子
目的 今後における微粒子集積体の多様な用途展開に対応すべく、特徴ある新規な構成の微粒子集積体の提供。
効果 フォトニック結晶や光学素子等として利用できる微粒子集積体の新規で簡易な製造方法が提供できる。更に、微粒子集積体の新たなカテゴリーである粒子細線アレイと、その簡易な製造方法が提供できる。
技術概要
この技術では、1vol.%のオクタデシルトリクロロシランを含む無水トルエンに、窒素雰囲気下でシリコンプレートを5分間浸漬して表面を疎水化し、微粒子集積体用の基板を得る。次に、直径1000nmの球形SiO↓2微粒子15mgをエタノール80ml中に分散させたコロイド液を容器に収容し、このエタノール中に基板を縦向きに浸漬し、容器底部からの加熱によりエタノールを70℃に加温する。エタノールの底部と表層部との温度差によりエタノールが攪拌され、それによってSiO↓2微粒子も移動する。加温に基づくエタノールの蒸発につれて、その表層部が基板の表面側へ移動し、かつ、エタノールの蒸発に基づく液面低下につれて、SiO↓2微粒子が基板上に集積し、自己組織的に配列する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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