マイクロホールを有している金属薄膜の形成方法

開放特許情報番号
L2006000669
開放特許情報登録日
2006/2/10
最新更新日
2015/10/5

基本情報

出願番号 特願2000-005226
出願日 2000/1/5
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2001-192858
公開日 2001/7/17
登録番号 特許第3265363号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 マイクロホールを有している金属薄膜の形成方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 マイクロホールを有している金属薄膜
目的 遮蔽マスクや機械的な切削、リソグラフィ装置を用いることなく固体表面に、1〜10μm間隔で分布した直径が1〜10μmのマイクロホールを有している金属薄膜を形成する方法を提供する。
効果 固体表面に形成された金属薄膜に対して、専用のリソグラフィ装置を使用することなく、1〜10μm間隔で分布した直径が1〜10μmのマイクロホールを形成することができる。
技術概要
固体表面に金属薄膜を堆積させ、続いて、この固体を昇温することにより、マイクロホールを有する金属薄膜を固体表面上に形成する方法を提供するものである。図1は、マイクロホールを有する金属薄膜を固体表面上に形成する過程を示す模式図である。(a)は、金属薄膜の堆積前、(b)は、金属薄膜の堆積後、(c)は、加熱処理後を示している。マイクロホールの形成の過程は、まず、固体1の表面上(図1a)に金属薄膜2を堆積させる(図1b)。次に加熱処理を行うことにより金属薄膜2が熱凝集することによって一部の領域で固体1表面が露出し、マイクロホール3が形成される(図1c)。例えば、高圧合成{100}ダイヤモンド基板上において、電子ビーム蒸着装置により膜厚が100nmの金を堆積させ、続いて、水素雰囲気中において900℃に保持することにより、2〜10μm間隔で分布した直径が2〜5μmのマイクロホールを有している金薄膜を形成する。図2の光学顕微鏡写真に示すように、金薄膜に2〜10μm間隔の直径が2〜5μmのマイクロホール(黒い斑点)が形成される。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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