光応答性記録材料およびそれを使用する光情報記録材料

開放特許情報番号
L2006000165
開放特許情報登録日
2006/1/20
最新更新日
2015/9/21

基本情報

出願番号 特願2005-256470
出願日 2005/9/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-071973
公開日 2007/3/22
登録番号 特許第4691725号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光情報記録媒体
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 体積ホログラムメモリ、表面レリーフ型メモリ
目的 ホログラフィックな光情報記録における光誘起複屈折、長期保存安定性、繰り返し耐久性などの諸特性を改善する光情報記録材料または光応答性記録材料の提供。
効果 ホログラフィックな光情報記録における光誘起複屈折、長期保存安定性、繰り返し耐久性などの諸特性を改善する光情報記録材料得ることができる。
技術概要
この技術では、アゾ化合物の化学構造を改変し、また、それらの双極子モーメントの組み合わせを最適化する意図に基づいて、アゾ化合物と、さらに長いπ共役電子系を有するビスアゾ化合物を側鎖に有するコポリマー材料を新規に開発することによって、ホログラフィックな光情報記録における光誘起複屈折、長期保存安定性、繰り返し耐久性などの諸特性の向上が図れることを見出した。即ち、本技術は、光応答性部位として式(1)、(2)(式中、Ar↑1〜Ar↑5はベンゼン環またはヘテロ芳香環構造を示し、R↑1〜R↑5は各々同一または別異に環構造に結合する水素原子または置換基を示し、m、nおよびs〜uはその結合数を示し、X↑1〜X↑4は末端基または連結基であって、各式の少なくとも一方は連結基としてコポリマーの主鎖または側鎖に連結されており、末端基は水素原子または置換基であることを示す。)で表わされる構成単位を主鎖および側鎖の少なくとも一方に有するコポリマーである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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