水素分離膜及びその製造方法

開放特許情報番号
L2006000083
開放特許情報登録日
2006/1/20
最新更新日
2007/3/23

基本情報

出願番号 特願2005-223871
出願日 2005/8/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-038095
公開日 2007/2/15
発明の名称 水素分離膜及びその製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素リッチガス、水素分離膜、高純度水素
目的 薄くてもピンホールのない水素分離膜が得ることが可能であり、それを簡易に製造する方法の提供。
効果 ピンホールを持つ水素透過性圧延箔とその表面に形成される水素透過性金属膜又は合金膜からなる無孔水素分離膜の形成が容易であり、ピンホールを持つ圧延金属箔自体が高い強度を有するので、圧延金属箔及び水素透過性金属膜の全体の厚みを薄くすることができ、水素分離の効率が著しく増加する。
技術概要
 
この技術では、水素分離膜は、ピンホールを持つ圧延金属箔上に水素選択透過性を有する無孔金属膜を備える。水素選択透過性を有する無孔金属膜は、Pd又はAg若しくはCuを含有するPd合金、Nb合金又はV合金であるものとする。ピンホールを持つ圧延金属箔は、水素選択透過性材料からなるものとする。ピンホールを持つ圧延金属箔は、0.1〜10μmの厚さを有するものとする。さらにピンホールを持つ圧延金属箔が、0.5〜5μmの厚さを有するものとする。さらに、ピンホールを持つ圧延金属箔のピンホールの平均径が5μm以下であることが好ましい。圧延箔上に水素選択透過性膜を形成する際には、ピンホールが障害とならないように、その径が小さい方が好ましく、平均径が5μm以下であることが望ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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