シリルエチニル基を有するトリフェニレン化合物及びその製造方法

開放特許情報番号
L2006000015
開放特許情報登録日
2006/1/6
最新更新日
2006/6/16

基本情報

出願番号 特願2004-292415
出願日 2004/10/5
出願人 国立大学法人群馬大学
公開番号 特開2006-104124
公開日 2006/4/20
登録番号 特許第3777428号
特許権者 国立大学法人群馬大学
発明の名称 シリルエチニル基を有するトリフェニレン化合物及びその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリルエチニル基を有するトリフェニレン化合物
目的 新規なトリフェニレン化合物及びその製造方法を提供する。
効果 この化合物は耐熱性、耐光性が高く安定であり、また、有機溶媒に可溶であるため加工性が高い。蛍光やリン光を発する性質を有するため、有機エレクトロルミネッセンス素子などの光学材料として有用である。
技術概要
一般式(I)で表される化合物を提供する。一般式(I)は、R↑1〜R↑6が全て一般式(II)で表される置換基であることが好ましい。また、一般式(II)においてはR↑a、R↑b、R↑cがアルキル基であることが好ましく、イソプロピル基またはメチル基であることがより好ましい。一般式(III)で表される化合物に一般式(IV)で表される化合物を反応させて一般式(I)の化合物を製造する。この反応は通常のハロゲン置換反応にしたがって行うことができる。反応は触媒を用いて行うことが好まく、触媒の種類は反応を促進できるものであれば特に制限されないが、(PPh↓3)↓2PdCl↓2/CuI、(PPh↓3)↓4/CuIなどである。反応溶媒は、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン等で、これらとベンゼンやトルエンを混合して用いてもよい。一般式(I)の化合物として、特に好ましくは、2、3、6、7、10、11−ヘキサキス(トリメチルシリルエチニル)トリフェニレン、2、3、6、7、10、11−ヘキサキス(トリイソプロピルシリルエチニル)トリフェニレンなどである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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