| 出願番号 |
特願2003-177181 |
| 出願日 |
2003/6/20 |
| 出願人 |
国立大学法人岐阜大学 |
| 公開番号 |
特開2005-008597 |
| 公開日 |
2005/1/13 |
| 登録番号 |
特許第3762995号 |
| 特許権者 |
国立大学法人東海国立大学機構 |
| 発明の名称 |
三級アミン及びその製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
三級アミン |
| 目的 |
新規化合物である三級アミン及び三級アミンを容易に製造することができるとともに収率を向上させることができる三級アミンの製造方法を提供する。 |
| 効果 |
新規化合物であり、各種合成原料、各種化学製品、医薬品、農薬品等に用いることができる三級アミンの製造方法は、チオアミドとメチル化剤とを溶媒に加えた後に金属反応剤を加え、さらにグリニャール反応剤を加えるという簡単な操作で、三級アミンを容易に製造でき、収率を向上できる。 |
技術概要
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式（１）で示す三級アミンの製造方法であり、式（２）で示すチオアミドとＣＨ↓３−Ｘ のメチル化剤とを溶媒に加えた後にＲ↑８−Ｍ↑１の金属反応剤を加え、さらにＲ↑７−Ｍ↑２のグリニャール反応剤を加えるものである。式中、Ｒ↑１は、水素原子、アルキル基又はアリール基を示すとともにＲ↑２及びＲ↑３はアルキル基又はアリル基を示し、Ｒ↑７はアルキル基、アリール基、アリル基、ビニル基又はアルキニル基を示すとともにＲ↑８はアルキニル基、アリール基又はアルキル基を示す。Ｘはパーフルオロアルキルスルホキシル基を示す。Ｍ↑１はアルカリ金属原子を示す。Ｍ↑２はＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ又はＭｇＩを示す。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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