水素吸蔵・放出制御法

開放特許情報番号
L2005009116
開放特許情報登録日
2005/9/23
最新更新日
2015/11/6

基本情報

出願番号 特願2003-434765
出願日 2003/12/26
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2005-187307
公開日 2005/7/14
登録番号 特許第4222932号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 水素吸蔵・放出制御法
技術分野 金属材料
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 水素吸蔵・放出制御に適用する。
目的 水素吸蔵材料への水素の吸蔵・放出を制御する方法を提供する。
効果 比較的低い圧力領域、かつ室温付近での速やかな吸蔵・放出が可能になる。
技術概要
金属、合金等の水素吸蔵材料に水素を吸蔵させる際に、水素吸蔵材料の表面格子に予め歪みを加え、水素吸蔵を促進させる。また、水素吸蔵材料に吸蔵された水素を放出させる際にも、水素吸蔵材料の表面格子に予め歪みを加え、水素放出を促進させる。例えば、トランスデューサを使用することにより、水素吸蔵材料の固有振動数に相当する所定の振動数の弾性波を水素吸蔵材料に付与する、また、レーザ照射装置を使用することにより、所定の振動数の電磁波を電磁波−弾性波変換トランスデューサに付与して、発生する所定の振動数の弾性波を水素吸蔵材料に付与するこで制御が行える。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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