レーザーイオン化質量分析方法及びレーザーイオン化質量分析装置

開放特許情報番号
L2005008253
開放特許情報登録日
2005/8/19
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2005-148513
出願日 2005/5/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-324212
公開日 2006/11/30
登録番号 特許第4576609号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 レーザーイオン化質量分析方法及びレーザーイオン化質量分析装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 サンプルの分子量や原子量等の測定、分子構造解析や成分分析、MALDI質量分析法
目的 レーザーをイオン化に用いる質量分析において、レーザーの照射領域や照射位置を、試料設置後の試行錯誤等によるのではなく、容易に設定すること、データの再現性を向上させること及び測定時間を短縮することを可能とする方法及びそのための装置の提供。
効果 化学物質の質量分析においてイオン量を安定させることができるため、分析法自体の信頼性が増し、更に定量分析にも用いることができる。また、外部から液体状試料を注入してそれをオンラインでMALDI質量分析法により分析する装置に用いることができる。更に、試料の測定時間が短縮され、装置内部の汚染が低減するため、分析の効率化を図ることができる。
技術概要
本技術により、レーザーをイオン化に用いる質量分析を実施する場合、サンプル台或いは基板上の試料の厚さや厚さ分布をレーザーの照射前に測定し、レーザーの予定照射位置や予定照射領域を設定する。この位置決め方法或いは領域決め方法は、例えば、試料を溶媒にとった試料液を作製し、この試料液から溶媒を大気中で揮発或いは蒸発させた後に、試料の支持された基板やサンプル台を、基板の場合は観察台に設置し、またサンプル台の場合はそのままにし、顕微鏡を用い横方向から観察して試料の厚さや厚さの分布を計測する。次いで、その結果と予め求めた厚さとレーザー照射で生じるイオンの質量スペクトルとの関係を示す検量線と照合することによってレーザー照射位置を設定し、また、顕微鏡によって求められる厚さ分布データに対して閾値を設定し、この閾値以上の厚さを有するサンプル台上の試料領域をイオン化領域として設定することによってパルスレーザーの照射領域を設定する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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