微粒子発生方法及び装置

開放特許情報番号
L2005008242
開放特許情報登録日
2005/8/19
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2005-139128
出願日 2005/5/11
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-314900
公開日 2006/11/24
登録番号 特許第4873443号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 微粒子発生方法及び装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 輻射光源装置、固体ターゲット
目的 微粒子化すべき物質を透明な基板の上に蒸着、メッキ、接着その他の方法により付着させ、基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射して該付着させた物質を微粒子として放出するようにした微粒子発生方法の提供。
効果 本技術は、蒸着膜等の付着を行った物質に透明側の背面からレーザー照射し微粒子を発生させるものであるから、界面で蒸着物質を剥離する構造なため、固体に表面からレーザーアブレーションを行うものと比較して微粒子総量で大きなものを得ることができる。また、目的とする均一な微粒子径を得ることができるため、狭帯域な粒度分布が要求される応用に必要な供給量を少ない微粒子総量により供給することが可能となる。
技術概要
この技術の微粒子発生方法は、微粒子化すべき物質を透明な基板の上に付着させ、この基板に対して透明な波長のレーザーを基板側から照射することにより、物質を微粒子として放出させている。即ち、高繰り返し可能なパルスレーザーを透明媒質の方向から照射し、透明媒質及び蒸着膜の界面においてレーザーエネルギーを吸収させることにより、その界面において高圧力のプラズマが生じ、蒸着膜は、該高圧力のプラズマにより剥離される。この際、加熱で液化した該蒸着物質は、蒸着膜の厚さ、粘性、プラズマからの圧力で微粒子として分離され同時に放出される。放出されるアブレーション物質は、レーザーの発振波長において膜状で吸収率の高い物質でなくてはならず、金属などがこれに該当する。蒸着膜の製造は、真空蒸着、イオン銃、RFプラズマのスパッタ蒸着等の方法が考えられる。また、片側の蒸着膜にメッキ加工を行い、膜厚を制御したものでもかまわない。また、アブレーションを行うためのレーザーとしては、パルスレーザーが使われる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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