メソポーラスシリカ厚膜及びその製造方法、吸着装置並びに吸着用膜

開放特許情報番号
L2005008220
開放特許情報登録日
2005/8/19
最新更新日
2018/1/23

基本情報

出願番号 特願2007-528191
出願日 2006/4/20
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2006/112505
公開日 2006/10/26
登録番号 特許第5177378号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 メソポーラスシリカ厚膜及びその製造方法、吸着装置並びに吸着用膜
技術分野 電気・電子、機械・加工、無機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 多孔質材料、吸着、分離、メソポーラス、マクロポーラス
目的 メソポーラスシリカ膜は、μmオーダーの薄膜に限られ、厚膜は製造されておらず、メソポーラスシリカの厚膜を得るのであれば、基板上に直接ディップコーティング法などにより膜の厚さを調整できるのではないかと考えられるが、実際には、規則的構造に配列された状態で形成することができず、厚膜を形成することは困難となることに鑑み、厚膜メソポーラスシリカ及び厚膜メソポーラスシリカの製造方法の提供。
効果 メソポーラスシリカ厚膜を得ることができる。この厚膜を利用することにより水蒸気や各種ガスの迅速な吸脱着を可能となる。このメソポーラスシリカ厚膜の水蒸気や気体の吸脱着特性は、メソポーラスシリカ粉末単体ともしくはそれ以上であり、新たな吸脱着装置の開発が可能となり、これを利用したあらたな清浄化システムや濃縮システムの展開が可能となる。
技術概要
この技術では、メソポーラスシリカ厚膜は、メソポーラスシリカにより10μm〜1mmの厚さに形成されている膜である。このメソポーラスシリカは、1〜10nmの範囲で均一な細孔径を有するものであれば、ヘキサゴナル構造をもつものや、キュービック構造をもつものなど何でもよい。メソポーラスシリカ厚膜は、メソポーラシシリカを泳動電着により規則的構造に配列されて構成しているものである。このメソポーラスシリカ厚膜は、基板の表面に形成されているメソポ−ラスシリカ厚膜である。基板は導電性物質により形成されるものであり、電極として用いる事ができるものであれば適宜採用することができる。このような基板には、ステンレス鋼,普通鋼,低合金鋼、Al、Cu等の金属材料やセラミックス,ガラス,陶磁器等の非金属材料がある。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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