金属間化合物融液を用いた高融点シリサイド結晶成長法

開放特許情報番号
L2005007344
開放特許情報登録日
2005/7/8
最新更新日
2005/7/8

基本情報

出願番号 特願平11-248700
出願日 1999/9/2
出願人 静岡大学長
公開番号 特開2001-072500
公開日 2001/3/21
登録番号 特許第3079265号
特許権者 国立大学法人静岡大学
発明の名称 金属間化合物融液を用いた高融点シリサイド結晶成長法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 高性能熱電デバイスに用いる大型・高品質のシリサイドバルク結晶、
目的 シリコン基板と、高温に保持した金属間化合物融液とを反応させ、成長温度を適切に制御して、高融点シリサイド結晶を得る。
効果 β−FeSi↓2の大型・高品質シリサイド結晶を得ることが出来、不純物のドーピングを低温で容易に出来る。
技術概要
 
(A)金属間化合物と、(B)シリコン基板とを、真空槽の中に保持された準閉管容器中に充填し、好ましくは680℃に保持して反応させる。成分Aは、成分Bと反応する時に融液状となる金属間化合物で、(1)シリサイドよりも生成エネルギが小さく、(2)シリサイドの成長温度で安定であり、(3)Siを含む化合物を形成せず、(4)シリサイドとの界面での結晶格子の対称性がよく、(5)シリサイドを構成する金属と、単体で蒸気圧が高いまたは表面偏析しやすい元素を含むものであって、鉄アンチモン化合物が好ましく用いられ、これによりβ−FeSi↓2のシリサイド結晶が得られる。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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