クラスター膜製造方法および製造装置

開放特許情報番号
L2005007064
開放特許情報登録日
2005/7/1
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2005-085447
出願日 2005/3/24
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2006-265627
公開日 2006/10/5
登録番号 特許第4500941号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 クラスター膜製造方法および製造装置
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 レーザアブレーションによるクラスター膜
目的 レーザビームの集束点からずらした位置にターゲット面を設定させ、照射面からの材料蒸気の発生、不活性ガス衝撃波の発生の効率を向上させて、クラスター生成量を増加させる方法を提供する。
効果 強力なレーザビーム発生源を用い、ターゲット材料の突沸などによる液状飛散を避け、照射面積を大きくさせ、効率よく大量の材料蒸発原子を発生させ、また不活性ガスの強い衝撃波を発生させて大量のクラスタ群を生成出来る。
技術概要
ターゲット1からずらした位置に焦点11を設定し、レーザビーム2を照射させ、照射領域(照射面)12の面積を大きくさせる。ターゲット1の位置を焦点11の後方(レーザビーム発生源から遠い位置)に配置して、レーザビーム2をクラスター生成容器に導入する通路を細くさせ、容器の内外を仕切る容器窓を通過するレーザビーム2のエネルギー密度を低下させ、容器窓での発熱を分散させるのが好ましい。パルスレーザビーム2の光源を、マルチモード型レーザの出力ビームとし、ターゲット照射面12でのビーム断面強度分布の中央部分強度を周辺部分強度よりも強くさせた凸型分布となるように調整し、集束点の形成方法として、ビーム径を一旦拡大させ、緩やかな角度で集束させて集束点とさせるのが好ましい。クラスター生成空間に不活性ガス(例えば、Heガス)を満たし、ターゲット1から発生する蒸気が不活性ガスの衝撃波を方向4の方向に発生させ、これが生成容器の壁で反射し、膨張して進行してきた蒸気を囲い込みクラスタ群を生成させ容器窓から流出させて基板上に散布させ、クラスター膜を生成するようにさせるのが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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