| 出願番号 |
特願2005-037014 |
| 出願日 |
2005/2/15 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2006-225167 |
| 公開日 |
2006/8/31 |
| 登録番号 |
特許第4595113号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
ミクロ多孔質金属フルオライド |
| 技術分野 |
無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
腐蝕性ガスの分離膜素材、腐蝕性ガス環境下で用いられる触媒素材 |
| 目的 |
金属塩とアミド化合物とを加熱し、金属水酸化物とさせ、これを焼成しフッ素化させてミクロ多孔質金属フルオライドを得る。 |
| 効果 |
シャープな多孔（細孔直径）分布と高表面を有するミクロ多孔質金属フルオライドを容易に製造出来る。 |
技術概要
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（ａ）（Ａ）金属塩と（Ｂ）アミド化合物とを加熱し、金属水酸化物とさせ、（ｂ）これを焼成し、（ｃ）フッ素化させて、シャープナ多孔分布と高表面積を有する（Ｃ）ミクロ多孔質金属フルオライドを得る。工程ａに（Ｄ）無機ケイ素化合物を添加し、成分Ｂは尿素、成分Ｄはメタケイ酸ナトリウムなどとし、多孔質は細孔直径分布を１〜５０Å、平均細孔直径を５〜５０Å、表面積を１〜１２０ｍ↑２／ｇとさせ、工程ｃではハロゲン化炭化水素を成分Ｃの触媒の存在下でフッ化水素でフッ素化させるのが好ましい。成分Ａは、水溶性で、その水酸化物が非水溶性のもので、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｃａ、Ｎｉなどの無機酸塩（例えば、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩）で、成分Ｂは式：ＮＨ↓２ＣＯＲ（Ｒはアルキル、アリール、アリールアルキルなどの炭化水素基、炭化水素オキシ基）などで、成分Ａの０．１〜１０ｗｔ％と成分Ｂの０．１〜１０ｗｔ％とを、５０〜１００℃で加熱して金属水酸化物を沈殿させるのが好ましい。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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