応力解析方法及び応力解析装置

開放特許情報番号
L2005006933
開放特許情報登録日
2005/7/1
最新更新日
2018/1/8

基本情報

出願番号 特願2007-502556
出願日 2006/1/11
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2006/085424
公開日 2006/8/17
登録番号 特許第4568888号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 応力解析方法及び応力解析装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 物体の応力・歪み状態、力学的な安全性、応力分布の測定、歪みゲージ、漏れ点
目的 物体の応力状態を測定するに際して、熱弾性応力測定だけでなく、応力発光物質を応用した応力測定を併用することによって、熱弾性応力測定法の原理的な限界を超えて、より詳細な応力測定を可能とする応力解析方法及び応力解析装置を提供することの実現。
効果 物体の応力分布を測定するに際して、熱弾性応力測定の、例えば主応力成分値がわからない、純粋せん断力等を捉えられない等といった原理的な限界を超えて、より詳細な応力状態を測定することができる。例えば、3次元造形装置等で作成した製品・モデルに、混合、塗布等で応力発光物質を適用し、熱弾性応力測定と応力発光測定を行うことで、破損、疲労破壊を防ぐ等の目的で、表面の詳細な応力解析、応力集中領域の確認等に用いることができる。
技術概要
この技術は、機械的エネルギーによって発光する物質を応力測定に応用することを見いだしたことに基づく。具体的には、熱弾性応力測定と、物体に応力発光物質を塗布や混合等で適用し、荷重負荷によって発する光をカメラ等の受光装置で捉えて応力分布等を測定する手法(応力発光測定法と定義する)を併用する手法である。即ち、応力解析方法は、応力による物質の温度状態変化を測定することにより被測定物体に作用する応力状態を測定し、応力で発光する物質の光を測定することにより被測定物体に作用する応力状態を測定し、両測定データを演算処理することにより所定の応力分布等の力学情報を得る。また、応力解析方法において、所定の力学情報は、垂直応力成分分布情報であるとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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