サーミスタ用材料及びその製造方法

開放特許情報番号
L2005006345
開放特許情報登録日
2005/6/11
最新更新日
2018/2/20

基本情報

出願番号 特願2003-111217
出願日 2003/4/16
出願人 大阪府、株式会社岡野製作所、小川 倉一、美馬 宏司
公開番号 特開2004-319737
公開日 2004/11/11
登録番号 特許第4436064号
特許権者 株式会社岡野製作所、小川 倉一、美馬 宏司、地方独立行政法人大阪産業技術研究所
発明の名称 サーミスタ用材料及びその製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料、その他
機能 材料・素材の製造、表面処理、その他
適用製品 サーミスタ用材料、薄膜サーミスタ
目的 従来のサーミスタよりも広い条件下で使用可能なサーミスタ用材料を提供する。
効果 特定成分を含む窒化物をサーミスタとして利用することから、従来のサーミスタよりも広い条件下で使用することができる。
技術概要
本発明のサーミスタ用材料は、一般式MxAyNz(但し、MはTa、Nb、Cr、Ti及びZrの少なくとも1種、AはAl、Si及びBの少なくとも1種を示す。0.1≦x≦0.8、0<y≦0.6、0.1≦z≦0.8、x+y+z=1)で示される窒化物からなり、抵抗温度係数−5000〜−30000ppm/℃であり、かつ、比抵抗10−5〜10Ω・cmである。またサーミスタ用材料の製造方法は、M及びA(但し、MはTa、Nb、Cr、Ti及びZrの少なくとも1種、AはAl、Si及びBの少なくとも1種を示す。)又はこれらを含む材料をターゲットとして用い、窒素ガス含有雰囲気中でスパッタリングを行うことによって、基板上に一般式MxAyNzで示される窒化物薄膜を形成することを特徴とする。図はスパッタ装置の概要図である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 特定成分を含む窒化物をサーミスタとして利用することから、従来のサーミスタよりも広い条件下で使用することができる。
改善効果2 本発明の製造方法によって、より緻密で優れた特性を有する薄膜サーミスタを製造することができる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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