電気光学効果を利用した原子リソグラフィー装置、及び原子構造物の製造方法

開放特許情報番号
L2005006173
開放特許情報登録日
2005/6/11
最新更新日
2015/12/21

基本情報

出願番号 特願2003-035356
出願日 2003/2/13
出願人 独立行政法人情報通信研究機構
公開番号 特開2004-247491
公開日 2004/9/2
登録番号 特許第3918055号
特許権者 国立研究開発法人情報通信研究機構
発明の名称 電気光学効果を利用した原子リソグラフィー装置、及び原子構造物の製造方法。
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 微細パターンの形成方法、原子リソグラフィー装置、半導体集積回路
目的 光と原子の相互作用を用いるが、光の回折限界以下程度の高い分解能を有する原子リソグラフィー技術の提供。
効果 光の回折限界以下の分解能(荷電粒子線の収束ビーム径以下の分解能)をもった任意のパターンを有する多くの同じ原子構造物を同時に得ることができる。基板上に堆積する原子の形状を精密かつ再現性よく制御することを可能とする原子リソグラフィー装置、及び原子リソグラフィー方法(原子構造物の製造方法)を提供することができる。
技術概要
この技術では、原子ビームが含む原子を基板上に堆積して原子構造物を製造するための原子リソグラフィー装置は、ピンホールを有する原子オーブンを備えると共に、原子オーブンから放出する原子気体をコリメートし、原子ビームとするピンホールを有するコリメータを備える。また、原子ビームにレーザーを照射し、原子ビームの広がり角を制御する4本のレーザーを備えると共に、原子ビームが進行する空間の一部に光定在波を形成し、原子ビームの進行方向を制御する2本のレーザーを備え、原子ビームの進行方向を制御するレーザーの位相を制御し、原子ビームの進行方向を制御する電気光学素子を備える。さらに、電気光学素子に加える電圧を制御し、電気光学素子の屈折率を制御する電気光学素子駆動装置を備え、電気光学素子駆動装置を制御する制御装置を具備する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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