原子ビーム制御装置および制御方法

開放特許情報番号
L2005005647
開放特許情報登録日
2005/5/27
最新更新日
2015/12/21

基本情報

出願番号 特願2000-398289
出願日 2000/12/27
出願人 独立行政法人情報通信研究機構
公開番号 特開2002-196100
公開日 2002/7/10
登録番号 特許第3520334号
特許権者 国立研究開発法人情報通信研究機構
発明の名称 原子ビーム制御装置および制御方法
技術分野 機械・加工、電気・電子、情報・通信
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 原子ビーム制御装置、原子リソグラフィ装置
目的 原子ビームの空間的な位置を自動制御して,基板上における原子描画位置を二次元的に所望の場所へ移動・安定化させ,さらに,基板上における原子描画位置の空間的位置合わせや描画領域の拡大を実現するための原子ビームの位置制御装置および制御方法を提供する。
効果 原子ビームの空間的な位置を自動制御して,基板上における原子描画位置の空間的位置合わせや描画領域の拡大を実現することができる。
技術概要
図で本発明の運動制御部Mを説明する。原子ビーム発生部1において,原子ビーム2が生成される。原子ビーム2は多重極磁場生成電極A,多重極磁場生成電極B,多重極磁場生成電極Cおよび多重極磁場生成電極Dに電流を流すことにより生成される多重極磁場の中を通過する。一方,光ビーム生成部7において,光ビーム8が生成される。光ビーム8は,原子ビーム2に照射されるが,このとき2次元(x,y方向)の光磁気トラップが生成されて光ビーム8と四重極磁場の両方が同時に原子に対して相互作用し,x,yの2方向について前述の原子運動制御を原子に施す。その結果,原子は四重極磁場のB=0の軸上へガイドされるように運動制御を受け,原子ビーム2の位置が磁束密度B=0の方向に移動し,B=0の軸上に安定化されたあと取り出される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 レンズなどで光の回折限界まで集束させたプローブ光を使用することができるので,光の波長程度の精度で原子ビーム位置を探索することができる。
改善効果2 プローブ光の空間的な位置や制御しきい値を変化させることによって高い精度で二次元的に原子ビームを移動させて,二次元的な自動位置決めができる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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